Станции первой очереди — различия между версиями
Riv (обсуждение | вклад) |
(→Станция 1-2 «Структурная диагностика») |
||
| (не показано 9 промежуточных версий 2 участников) | |||
| Строка 4: | Строка 4: | ||
Станция «Микрофокус» использует сочетание уникального преимущества источника СИ 4-го поколения — сверхмалого эмиттанса — и последних достижений рентгеновской оптики для решения приоритетных задач фундаментальной и прикладной науки, требующих применения высокоинтенсивных сфокусированных пучков СИ. | Станция «Микрофокус» использует сочетание уникального преимущества источника СИ 4-го поколения — сверхмалого эмиттанса — и последних достижений рентгеновской оптики для решения приоритетных задач фундаментальной и прикладной науки, требующих применения высокоинтенсивных сфокусированных пучков СИ. | ||
---- | ---- | ||
| − | + | ||
| − | ===[ | + | ===[https://skif-wiki.biouml.org/images/0/0b/Station_1-2.pdf Станция 1-2 «Структурная диагностика»]=== |
Станция предназначена для решения широкого спектра исследовательских и технологических задач, методами рентгеновской дифракции с использованием синхротронного излучения: | Станция предназначена для решения широкого спектра исследовательских и технологических задач, методами рентгеновской дифракции с использованием синхротронного излучения: | ||
| Строка 15: | Строка 15: | ||
- реализация дифракционных исследований веществ и материалов в условиях воздействия высоких температур в различных газовых средах, в том числе, в условиях протекания химических каталитических реакций; | - реализация дифракционных исследований веществ и материалов в условиях воздействия высоких температур в различных газовых средах, в том числе, в условиях протекания химических каталитических реакций; | ||
| − | |||
---- | ---- | ||
| − | + | ||
| − | ===[ | + | ===[https://skif-wiki.biouml.org/images/7/78/Station_1-3.pdf Станция 1-3 «Быстропротекающие процессы»]=== |
Cтанция предназначена для исследования быстропротекающих процессов в веществе, а также поведения вещества и материалов в условиях мощных импульсных воздействий лазерного излучения, взрыва, ударных волн, плазмы и направленных потоков частиц, и при синтезе новых высокотемпературных композитных материалов. Измерительное оборудование будет оптимизировано для проведения рентгенографических и дифракционных измерений с высоким временным разрешением, вплоть до регистрации сигнала с каждого банча. | Cтанция предназначена для исследования быстропротекающих процессов в веществе, а также поведения вещества и материалов в условиях мощных импульсных воздействий лазерного излучения, взрыва, ударных волн, плазмы и направленных потоков частиц, и при синтезе новых высокотемпературных композитных материалов. Измерительное оборудование будет оптимизировано для проведения рентгенографических и дифракционных измерений с высоким временным разрешением, вплоть до регистрации сигнала с каждого банча. | ||
---- | ---- | ||
| − | + | ||
| − | ===[ | + | ===[https://skif-wiki.biouml.org/images/2/20/Station_1-4.pdf Станция 1-4 «XAFS-спектроскопия и магнитный дихроизм»]=== |
Станция «XAFS-спектроскопия и магнитный дихроизм» предназначена для реализации комплекса методов исследования локальной пространственной, электронной и магнитной структуры кристаллических и аморфных материалов, молекулярных кристаллов, примесей в сплавах, тяжелых элементов в биологической матрице с содержанием анализируемого элемента до 0.001%, а также жидкостей и газов на базе рентгеноадсорбционной спектроскопии EXAFS/XANES и рентгеновской эмиссионной спектроскопии. | Станция «XAFS-спектроскопия и магнитный дихроизм» предназначена для реализации комплекса методов исследования локальной пространственной, электронной и магнитной структуры кристаллических и аморфных материалов, молекулярных кристаллов, примесей в сплавах, тяжелых элементов в биологической матрице с содержанием анализируемого элемента до 0.001%, а также жидкостей и газов на базе рентгеноадсорбционной спектроскопии EXAFS/XANES и рентгеновской эмиссионной спектроскопии. | ||
---- | ---- | ||
| − | |||
| − | |||
| − | Станция «Диагностика в высокоэнергетическом рентгеновском диапазоне» станет базой для передовых научных экспериментов в областях материаловедения, геофизики, археологи, палеонтологии и медицины. На станции будет | + | ===[https://skif-wiki.biouml.org/images/b/bc/Station_1-5.pdf Станция 1-5 «Диагностика в высокоэнергетическом рентгеновском диапазоне»]=== |
| + | |||
| + | Станция «Диагностика в высокоэнергетическом рентгеновском диапазоне» станет базой для передовых научных экспериментов в областях материаловедения, геофизики, археологи, палеонтологии и медицины. На станции будет реализован ряд исследовательских методик с использованием высокоразрешающей интроскопии, дифракции и рассеяния рентгеновских лучей. Энергетический диапазон от 25 до 150 кэВ и высокая пространственная когерентность источника ЦКП «СКИФ» позволит использовать передовые методы фазово-контрастной радиографии для получения высококонтрастных изображений с микрометровым и субмикрометровым разрешением. | ||
---- | ---- | ||
| − | + | ||
| − | ===[ | + | ===[https://skif-wiki.biouml.org/images/c/cf/Station_1-6.pdf Станция 1-6 «Электронная структура»]=== |
Станция «Электронная структура» предназначена для решение широкого спектра исследовательских и технологических задач, методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и рефлектометрии с использованием синхротронного излучения: | Станция «Электронная структура» предназначена для решение широкого спектра исследовательских и технологических задач, методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и рефлектометрии с использованием синхротронного излучения: | ||
Текущая версия на 14:51, 5 октября 2021
Содержание
Станция 1-1 «Микрофокус»
Станция «Микрофокус» использует сочетание уникального преимущества источника СИ 4-го поколения — сверхмалого эмиттанса — и последних достижений рентгеновской оптики для решения приоритетных задач фундаментальной и прикладной науки, требующих применения высокоинтенсивных сфокусированных пучков СИ.
Станция 1-2 «Структурная диагностика»
Станция предназначена для решения широкого спектра исследовательских и технологических задач, методами рентгеновской дифракции с использованием синхротронного излучения:
- реализация комплекса дифракционных методик, предполагающих проведение исследований в режиме высокого инструментального разрешения с возможностью варьирования рабочей энергии синхротронного излучения для синтетических, геологических, биологических соединений и функциональных материалов разнообразного назначения;
- реализация метода монокристального рентгеноструктурного анализа для определения кристаллических структур образцов, исследование которых с использованием стандартных лабораторных дифрактометров по определенным причинам (малый размер, малое время жизни и т.д.) крайне затруднено либо полностью не реализуемо;
- реализация дифракционных исследований веществ и материалов в условиях воздействия высоких температур в различных газовых средах, в том числе, в условиях протекания химических каталитических реакций;
Станция 1-3 «Быстропротекающие процессы»
Cтанция предназначена для исследования быстропротекающих процессов в веществе, а также поведения вещества и материалов в условиях мощных импульсных воздействий лазерного излучения, взрыва, ударных волн, плазмы и направленных потоков частиц, и при синтезе новых высокотемпературных композитных материалов. Измерительное оборудование будет оптимизировано для проведения рентгенографических и дифракционных измерений с высоким временным разрешением, вплоть до регистрации сигнала с каждого банча.
Станция 1-4 «XAFS-спектроскопия и магнитный дихроизм»
Станция «XAFS-спектроскопия и магнитный дихроизм» предназначена для реализации комплекса методов исследования локальной пространственной, электронной и магнитной структуры кристаллических и аморфных материалов, молекулярных кристаллов, примесей в сплавах, тяжелых элементов в биологической матрице с содержанием анализируемого элемента до 0.001%, а также жидкостей и газов на базе рентгеноадсорбционной спектроскопии EXAFS/XANES и рентгеновской эмиссионной спектроскопии.
Станция 1-5 «Диагностика в высокоэнергетическом рентгеновском диапазоне»
Станция «Диагностика в высокоэнергетическом рентгеновском диапазоне» станет базой для передовых научных экспериментов в областях материаловедения, геофизики, археологи, палеонтологии и медицины. На станции будет реализован ряд исследовательских методик с использованием высокоразрешающей интроскопии, дифракции и рассеяния рентгеновских лучей. Энергетический диапазон от 25 до 150 кэВ и высокая пространственная когерентность источника ЦКП «СКИФ» позволит использовать передовые методы фазово-контрастной радиографии для получения высококонтрастных изображений с микрометровым и субмикрометровым разрешением.
Станция 1-6 «Электронная структура»
Станция «Электронная структура» предназначена для решение широкого спектра исследовательских и технологических задач, методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и рефлектометрии с использованием синхротронного излучения:
- реализация метода фотоэлектронной спектроскопии высокого давления для проведения in situ и operando исследований состава и электронной структуры активного компонента в функционирующих каталитических системах различного типа при повышенном давлении, in situ исследований закономерностей процессов, приводящих к дезактивации/отравлению каталитических систем различного типа в зависимости от условий протекания реакции (состава реакционной среды, температуры, наличия отравляющих агентов и т.д.), in situ исследований инновационных функциональных материалов;
- реализация метода фотоэлектронной спектроскопии с угловым разрешением, в том числе УФЭС, для проведения исследований зонного спектра и спиновой поляризации твердых тел для приложений наноэлектроники и спинтроники.
- реализация метода рефлектометрии для аттестации спектральных оптических элементов, фокусирующих элементов и детекторов рентгеновского излучения; метода эталонного детектора для абсолютной калибровки спектральной чувствительности различного рода рентгеновских приёмников излучения в ВУФ и МР диапазоне; набора метрологических методик для калибровки основных характеристик различного рода рентгеновских детекторов: однородность чувствительности по поверхности, стабильность характеристик, радиационная стойкость, временные характеристики и т.д.; реализация рефлектометрических методик для определения геометрических и структурных свойств тонкопленочных и многослойных покрытий; реализация рефлектометрических методик для калибровки спектральных элементов для ВУФ и МР области: кристаллов, дифракционных решеток, многослойных зеркал, зеркал полного внешнего отражения и пр.
